SUME ir-Warcher为多种工艺和各种基材加工,提供了一种覆盖正面、背面甚至夹层的套刻误差量测方案。该设备所需的占地面积小,使用成本低。同时,它为光刻套刻误差、键合偏移,提供了可靠且精准的计量。该系统主要被应用在 MEMS 器件、功率半导体和其他光电设备制造过程中。